Crecimiento de silicio semiconductor monocristalino Los materiales de campo térmico de alta pureza de SIAMC desempeñan un papel crucial en la fabricación de hornos de semiconductores de silicio monocristalino.SIAMC puede producir materiales de campo térmico de gran tamaño, de 36 pulgadas o más, con una pureza de grafito que alcanza hasta 5 p. Leer Más

Fabricación electrónica de polisilicio Los trozos de semillas de grafito de alta pureza de SIAMC se utilizan ampliamente en la producción de polisilicio de calidad electrónica mediante el proceso Siemens.El requisito de pureza del trozo de semilla es de hasta 5 ppm.El grafito de SIAMC cumple con este requisito de alta pureza y proporciona una excelente calidad térmica. Leer Más

Implantación de iones y grabado por plasma Los productos de grafito de SIAMC se utilizan ampliamente en equipos de implantación de iones y grabado por plasma debido a su excelente resistencia al calor, conductividad térmica, bajo contenido de impurezas y resistencia a la corrosión por haces de iones. En la implantación de iones, se utiliza grafito de alta pureza. Leer Más

Los componentes de grafito y materiales aislantes de EPI y MOCVDSIAMC se utilizan ampliamente en equipos epitaxiales semiconductores debido a sus excelentes propiedades térmicas y mecánicas.En los procesos de crecimiento epitaxial, se utiliza grafito de alta pureza para los componentes del reactor de pared caliente, como el calentador, el susceptor, Leer Más