PAI y MOCVD

Los componentes de grafito y los materiales aislantes de SIAMC se utilizan ampliamente en equipos epitaxiales semiconductores debido a sus excelentes propiedades térmicas y mecánicas.En los procesos de crecimiento epitaxial, se utiliza grafito de alta pureza para los componentes del reactor de pared caliente, como el calentador, el susceptor, el inyector de gas y la placa de distribución de gas.El bajo contenido de impurezas de los productos de grafito de SIAMC garantiza una alta pureza del proceso y reduce la generación de partículas durante el procesamiento a alta temperatura.

Además, los materiales aislantes de SIAMC se utilizan para aislamiento y preservación del calor en el equipo epitaxial para mantener una temperatura de proceso alta y reducir la pérdida de calor.Estos materiales tienen excelentes propiedades de aislamiento térmico y resistencia a altas temperaturas, lo que garantiza un funcionamiento estable y eficiente del equipo.

En general, los componentes de grafito y los materiales aislantes de SIAMC desempeñan un papel fundamental a la hora de garantizar la calidad y el rendimiento de los procesos de crecimiento epitaxial, lo que los hace esenciales para la fabricación de semiconductores.