Implantación de iones y grabado con plasma

Los productos de grafito de SIAMC se utilizan ampliamente en equipos de implantación de iones y grabado por plasma debido a su excelente resistencia al calor, conductividad térmica, bajo contenido de impurezas y resistencia a la corrosión por haces de iones.

En la implantación de iones, el grafito de alta pureza se utiliza en tubos de vuelo, diversas rendijas, electrodos, cubiertas de electrodos, conductos y terminadores de haz.Estos componentes deben ser resistentes a la corrosión provocada por los haces de iones.

En el grabado con plasma, los componentes de la cámara de reacción del plasma están expuestos al gas de grabado, lo que puede provocar contaminación y corrosión.Sin embargo, el grafito es resistente a la corrosión en condiciones de trabajo extremas, como el bombardeo de iones o el plasma, lo que lo convierte en un material ideal para componentes de equipos de grabado por plasma, como los electrodos de grafito.

Los productos de grafito de alta calidad de SIAMC brindan excelente rendimiento y confiabilidad para equipos de implantación de iones y grabado por plasma, lo que garantiza la calidad y eficiencia del procesamiento de semiconductores.